针对聚酯型 PU 水解失光痛点，可搭配 CUWR-AH01 抗水解剂，阻断水解链式反应，避免表层降解粉化引发永久性失光。
传统石蜡、普通润滑剂：短期抛光提亮效果明显，但极易向表面迁移析出，一段时间后表面起雾、发粘、光泽快速下滑；过量添加还会削弱表层耐磨性。
CUBD-MG01 功能性磨光助剂
CUBD-MG01 正是针对磨光加工难题而开发的功能性助剂，具有如下特点：
解决磨光时胶发粘黏砂带问题，提高辊面光亮度，解决聚氨酯韧性与光亮抛光面的兼得难题，大幅提高胶辊表面精度和质量；
解决宽广硬度范围内特别是低硬度聚氨酯磨光发粘难题；
不影响聚氨酯硬度、拉伸强度等力学性能，不影响聚氨酯耐高低温性；
液体状态方便使用；
用量少，效果卓越。
MG01 改善抛光界面状态，减少磨光阶段微划痕、麻点，获得平整均匀的初始高光表面，从源头减少后期光泽衰减诱因；区别于普通蜡类增光助剂，不易迁移析出，更利于光泽长期稳定。
分散体系：填料分散不良、粉体团聚，磨光后表层存在隐性缺陷，长期使用缺陷扩大造成失光；YRFC-03/03S 分散剂保障填料均匀分散，提升表面平整度。
抗氧、光稳定助剂：缺少稳定剂时，光氧化持续破坏表层聚氨酯分子链，表层粗糙化，光泽持续下降。
抛光时机：制品未完全熟化充分就进行磨光，表层树脂结构不稳定，后期极易形变失光；
砂带粒度、抛光转速：粗粒度砂盘留下大量微观划痕，肉眼初期不易察觉，服役过程中划痕持续扩大，光泽快速衰减；摩擦过热会造成表层局部熔融、应力不均；
抛光介质与进给速度：磨光过程粘砂、拉丝、表面麻点，会形成大量应力集中点，加速老化失光。
CUBD-MG01 能够有效改善抛光粘砂带现象，获得平整细腻的抛光表面，减少微观缺陷，延长高光维持时长。
温湿度：高温高湿环境加速聚酯 PU 水解，表层粉化失光；干湿交替环境破坏表面微观结构；
光照条件：紫外线引发光氧化降解，表面逐步粗糙，户外工况失光速度远高于室内避光存放；
接触介质：长期接触油污、酸碱、粉尘，持续侵蚀、磨损表层，加速光泽消退；
持续摩擦工况：胶辊、AGV 轮等往复摩擦使用，表层持续磨损，光泽逐步降低。
追求高光且长效保光的聚氨酯胶辊、弹性体制品：配方优选广州优润环保有机铋催化剂，构建均匀致密交联结构；搭配 CUBD-MG01 进行抛光改良，获得平整无缺陷高光表面；聚酯型体系复配 CUWR-AH01 抗水解剂，抑制湿热降解失光。
严格控制蜡质、小分子润滑剂添加量，优先选用低迁移型功能助剂；
规范熟化周期，待制品完全固化后再开展磨光作业；优化砂带粒度、抛光转速，降低抛光产生的微观损伤。
误区：只要抛光后亮度高，光泽就能长期保持。正解：短期高光不等于长效保光，普通蜡类助剂快速析出，短期内就会起雾失光；
误区：光泽失光仅仅是表面磨损造成。正解：基材水解、光氧化、助剂迁移、抛光隐性划痕都会引发失光，需要体系化方案协同改善；
误区：催化剂只影响固化速度，和光泽耐久性无关。正解：选用广州优润环保有机铋催化剂，交联结构更均匀、抗黄变更佳，规避胺类催化剂带来的快速黄变失光问题；
误区：MG01 可以阻止后期老化失光。正解：MG01 优化抛光成型效果，提升初始表面质量；想要抵御水解、光老化，需要搭配抗水解剂、光稳定剂协同使用。